理論上、超純水とは、18 MΩ*cm (25 ℃) を超える、または 18.3 MΩ * cm (25 ℃) に近い抵抗率を持つ水を指します。この水には水分子はもちろん、不純物がほとんどなく、細菌やウイルス、塩素を含むダイオキシン類などの有機物も存在しません。

超純水は主に半導体オリジナル材料やナノファインセラミックス材料、原子力産業用水などの超純度材料の開発に使用されます。

このような水を一般的なプロセスで得るのは困難です。理論的には、2 段階の逆浸透とその後の一連の混合交換樹脂研磨によって処理できます。

超純水は現在、主に半導体産業や原子力産業で使用されています。

エレクトロニクス産業では、さまざまな電子部品の洗浄から一連のプロセス溶液の調製に至るまで、特に半導体デバイスや大規模集積回路の製造には高品質の純水が必要です。超高純度は、ほぼすべての水洗浄プロセスで使用されます。電子グレードの樹脂で作製した超純水は、基本的に15MΩ・cm（25℃）以上の抵抗値が必要です。

原子力発電所の水処理は、通常の発電所とはまったく異なります。原子力発電所の回路や、あらゆる活動を排除しなければならない環境では、使用される樹脂が沈殿や腐食を引き起こす可能性のあるイオンや物質を放出しないことが絶対に重要です。したがって、核グレードの樹脂は、非常に高い安定性を備え、非常に高い再生レベルに達し、非常に高い純度を備えていなければなりません。

核グレード樹脂で調製した超純水は、基本的に18MΩ・cm（25℃）以上の抵抗値が必要です。